Direkte skrift laser litografi (DWL) er en høy oppløselig laserbasert optisk litografi system. Det er en prosess med overføring av geometriske mønster til overflaten til halvledermaterialer. Overflaten er dekket av fotoresistent materiale som mottar lysenergien og generer en fotokjemisk reaksjon som danner mønster.
Kravspesifikasjon:
DWL laser skrive system for vitenskapelig formål, hovedsakelig for bruk med gruppe IV halvledere og halvleder oksyder.
-Mønster på substratet ned til 10x10 mm og opp til 125x125 mm
-Minimum maskestørrelse: 1 µm
-Laserbølgelengde i området 350 til 400 nm
-Substrat tykkelse opp til 2 mm
-Skrivehastighet, arealmessig: minimum 2 mm2/minutt
-Innstillingsnøyaktighet (3 sigma): 400 nm
-Elektrisk tilkobling: 240 V AC/1 fase / 50Hz
Merk: For å melde din interesse i denne kunngjøringen og motta tilleggsinformasjon vennligst besøk Doffin nettsiden http://www.doffin.no/Search/Search_Switch.aspx?ID=293784.