Pasiūlymų pateikimo terminas praėjo.
Anskaffelsens målsetning er at forespurte utstyr skal la brukeren minst utføre følgende generelle operasjoner:
Utføre Spark Plasma Sintering av en lang rekke materialer, inkludert metaller, keramikk, nanomaterialer, kompositter og funksjonelt graderte materialer. Utstyret bør tillate Spark Plasma Sintering ved høyt vakuum opp til minst 2000 ° C for prøver ≤ 3 cm i diameter. Sintring trykket bør være i området 2 kN til minimum 250 kN. Evakuering av sintring kammeret til høyvakuum skal være mulig. Utstyret bør være lett å betjene og utstyrt med nødvendige nødstopp og sikkerhetssystemer.
For ytterligere krav til anskaffelsen, vennligst se den tekniske spesifikasjonen i vedlegg 1 (se vedlegg).